Zariadenie na rovnomerné opracovanie povrchu sypkých materiálov v plazme

Foto: archív pôvodcov/Ústav polymérov SAV

Technológia rieši problém rovnomerného opracovania povrchu častíc organických alebo anorganických sypkých materiálov, resp. práškov účinkom nízkoteplotnej plazmy v prostredí vzduchu alebo iného plynu, resp. zmesi plynov.

Konkurenčné výhody

  • rovnomerné opracovanie povrchu práškových materiálov;
  • možnosť viacnásobného opracovania povrchu práškových materiálov;
  • možnosť dosiahnutia lepšej kvality a stability (nano)kompozitov, náterových látok a adhezív modifikovaných podľa predmetného riešenia.

Využitie technológie

  • možnosť využiť v aplikáciách, kde sa požaduje vyššia polarita anorganických i organických práškov používaných ako plnivá do polymérnych (nano)kompozitných materiálov, náterových látok a (nano)kompozitných adhezív.

Na stiahnutie

Ochrana duševného vlastníctva

  • Udelený patent: (SK)